高压电离室 环境γ辐射剂量率测量专用设备
核级与化工真空机组 耐腐防爆环保型液环真空机组 耐腐蚀防爆产品环境γ辐射剂量率测量专用设备；量率量程跨九个数量级（1......
本设备主要用于半导体刻蚀，能够兼容离子束刻蚀和反应离子刻蚀功能，使用气态化学刻蚀剂与材料产生反应来进行刻蚀，并形成可从衬底上移除的挥发性副产品，通过真空系统排出，特别适合刻蚀熔融石英、硅、光刻胶、聚酷亚胺( PI) 薄膜、金属等材料。
致力于电真空、核级装备、人工晶体材料及薄膜制备设备的技术提升，在服务领域深耕细作，具有较深的技术沉积。
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