research热蒸发/磁控溅射 多靶复合磁控溅射镀膜机 离子刻蚀机功能
多靶复合磁控溅射镀膜机，可满足合金膜、单层膜、多层膜、导电膜、非导电膜和反应溅射的需要，具有极高的实用性和通用性（三......
全封闭框架结构，真空室为前开门方式，机柜和主机为一体式机构。采用优质0Cr18Ni9不锈钢材料（SUS304），箱体尺寸为不小于φ350x400mm。设置DN100观察窗口，位于真空腔体门正前方，骨架默认白色（或铝合金本色），门板为白色，四只脚轮，可固定，可移动。室体、真空机组、磁控靶等有断水报警锁定安全装置，能够防止停水后出现安全隐患。
1. 真空系统：
1.1极限真空度：≤6.63×10－4Pa（空载、经充分烘烤除气并充干燥氮气）。
1.2真空配置：高速直联旋片泵一台，抽速大于6L/S，超高分子泵一台，抽速600L/s。
1.3真空测量：两路电阻规，一路电离规；对真空室和真空管道分别精确监控，带数据通讯。
2. 工件架系统：单工位4英寸工件盘，工件盘可加热至500摄氏度，工件架真空室底部安装，便于更换基片，转速3～30rpm。
3. 照明装置：照明装置1套。
4. 磁控溅射系统：配置2-3个Φ50mm磁控靶，安装于真空室顶部，向下溅射成膜。