JK高真空系统 真空镀膜机 工业炉 半导体

广泛运用于真空镀膜、工业炉和半导体专用设备，该设备具有价格低廉、性能稳定和真空度高的特点，是目前较低投入获得高真空的标准设备，由于主泵没有运动部件，因此该设备故障率极低，特别适合对稳定性有特殊需求的行业，但是也存在能耗较高的特点，根据客户需求，可选配低温冷阱，降低油分子对室体的污染。

特别说明：

根据用户不同的工况和工艺要求，可使用旋片泵、滑阀泵、罗茨机组等作为机组前级系统，与主泵扩散泵组成高真空系统，小型JK高真空系统可选配移动小车，满足现场工艺需求，公司致力于工艺与设备的完美匹配。