JK高真空系统 真空镀膜机 工业炉 半导体
广泛运用于真空镀膜、工业炉和半导体专用设备，该设备具有价格低廉、性能稳定和真空度高的特点，是目前较低投入获得高真空的......
该设备为公司根据客户工艺需求定制，与中国科学院某研究所国家重点实验室联合研制，先后获得奖励3项，联合申报国家专利2项，用于固体润滑、防腐和超硬表面改性等领域，服务于科研和国家重大项目需求，具有多功能、高稳定和国内首创的特点，欢迎各位联合研制。
●设备主要由真空腔体、真空系统、工件盘系统、烘烤系统、溅射系统、离子轰击系统、充气系统和在线测量系统组成，同时匹配空气压缩气体气源和水冷系统，可根据客户使用需求定制。
●真空腔体：φ900x1050，双层水冷；（可根据实际需求定制）
●真空系统：分子泵+低温泵+罗茨泵+机械泵复合真空系统；
●真空抽速：4000-7000L/S，进口全量程复合真空计，全金属防爆真空规；
●极限真空：6.7X10-5Pa；（根据客户选择主泵确定）；
●磁控靶组件：4个矩形靶，4个圆柱靶，根据客户实际需要匹配中频、射频、脉冲直流溅射电源；
●离子源：2套线性离子源，匹配专用电源；
●气路：4路反应气体，进口质量流量计，1路毛细保护气路；
●烘烤温度：400℃，不锈钢铠装加热器，可拆卸快装结构；
●工件盘：导轨多工位行星工件盘2套（标准配置为12工位和24工位，可扩展数百件工件共同沉积），工件盘装夹移动小车一辆；
●控制系统：西门子PLC+西门子人机界面+工业控制计算机。